主题：散射中的偏振到底怎么用

时间：2026年7月7日下午：14：30-16：30

地点：深圳技术大学B2-801会议室

演讲嘉宾：西安电子科技大学 刘飞教授

主讲人简介(About the speaker)：

刘飞，西安电子科技大学光电工程学院教授，博士生导师，陕西省杰青，国家青年人才。西安市计算成像重点实验室副主任；光信息控制与安全技术国防重点实验室客座教授；现担任Advanced Imaging期刊副主编；Optics and Lasers in Engineering 等多个期刊编委；PhotoniX、Opto-electronic Advances等期刊青年编委；美国光学学会OPTICA Travel Lecture；主要从事计算成像及图像处理技术的研究。在Light：Science & Application、Advanced Photonic、Photonic Insight、Opto-Electronic Advances/Science、 Photonic Research等国际知名期刊发表学术论文60余篇，引用近5000次。

讲座内容摘要：

无论是二维成像还是三维成像，散射效应是这一过程中无法忽略的现象，随着传输距离和成像条件的变化，散射对成像以及对光场物理信息带来了不确定性的影响，致使成像效果大幅度受限。因此报告尝试从理论上建立散射光场偏振信息的表征模型，并结合二维和三维成像特点，对于透过散射介质的二维成像及三维成像进行分析，建立散射偏振成像模型以及偏振三维成像模型，实现散射光场中信息的解译和利用。

集成电路与光电芯片学院

2026年7月2日